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二极管的管压降(或称“正向压降”)是指在二极管正向导通时,二极管两端的电压差。它的形成主要与二极管的工作原理有关。
二极管是由半导体材料(通常是硅或锗)制成的,其结构包括P型和N型半导体区域。在P-N结(即二极管的核心区域),当二极管正向偏置时,P型区的空穴和N型区的电子会相遇并重新结合,形成一个称为“耗尽区”的区域。
为了使电流通过二极管,需要克服这个耗尽区的能量障碍,即必须提供足够的能量来推动电子穿越这个耗尽区。这个过程需要一定的电压来突破结区的势垒,这个电压就叫做正向压降。
- 硅二极管的正向压降通常在 0.6V 到 0.7V 之间。
- 锗二极管的正向压降较低,通常在 0.2V 到 0.3V 之间。
当电流通过二极管时,由于电子与空穴的复合,部分能量转化为热量,因此并不是所有输入的电能都转化为电流流动所需的能量,剩余部分就表现为这个压降。正向压降随电流增加而增大,但通常在某一范围内保持相对稳定。
总结来说,二极管的管压降是由于P-N结的能量障碍所引起的,需要克服这一障碍才能使电流通过二极管。
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